• SINOVAC电子半导体光伏车间除尘真空吸尘系统CVP925

    详细信息

     加工定制:是  品牌:SINOVAC  型号:CVP925  
     除尘率:99.99 % 阻力损失:0.8 Pa 使用温度范围:-60-80 ℃ 
     处理风量:1600 m3/h 过滤速度:300 m/min  
    SINOVAC电子半导体光伏车间除尘真空吸尘系统CVP925
    电子半导体行业对生产环境的洁净度、微粒控制和静电防护有着极高的要求,真空吸尘系统在这一领域的应用至关重要。以下是其典型应用场景和技术要点:
    1. 晶圆制造与加工
    切割/研磨粉尘处理
    晶圆切割(Dicing)和化学机械抛光(CMP)过程会产生亚微米级粉尘。真空吸尘系统需具备:

    HEPA/ULPA级过滤(过滤效率≥99.999% @0.12μm)

    低振动设计(避免影响精密设备)

    防静电功能(离子风机或导电材料避免粉尘吸附)

    光刻区洁净控制
    在光刻胶涂布和显影环节,需清除空气中的纳米级颗粒:

    无油真空泵(防止油蒸气污染)

    化学兼容性(耐光刻胶溶剂腐蚀)

    2. 半导体封装与测试
    封装粉尘收集
    划片(Sawing)、打线(Wire Bonding)产生的金属/树脂碎屑:

    高吸力变频控制(适应不同粒径颗粒)

    防爆设计(用于可燃性粉尘环境)

    测试环境维护
    在芯片测试环节,真空系统需:

    低噪音运行(不影响精密仪器)

    ESD防护(接地系统+导电吸嘴)
    选型关键参数
    参数 典型要求
    真空度 10~50 kPa(根据颗粒粘附力)
    流量 50~200 m³/h(按覆盖面积)
    过滤精度 H14-ULPA级(ISO 15-13级)
    静电防护 ≤10⁶ Ω(导电吸嘴+接地)
    化学兼容性 耐酸/碱/溶剂(如HF、丙酮)
    行业趋势
    智能化集成:与MES系统联动,实现清洁过程数据追溯

    节能设计:变频电机+能量回收系统(节能30%+)

    纳米级过滤:分子筛+催化氧化技术处理VOCs
    SINOVAC电子半导体光伏车间除尘真空吸尘系统CVP925
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